Schichtwachstum

Schichtwachstum

Unter Schichtwachstum versteht man in der Oberflächenchemie das Wachstum von Monolagen auf eine Phasengrenze.

Inhaltsverzeichnis

Schichtwachstumsarten

Man unterscheidet drei einfache Grenzmechanismen:

Frank-van-der-Merwe-Modus
Frank-van-der-Merwe-Wachstum[1][2][3]
Das Frank-van-der-Merve-Wachstum ist ein Modell, bei dem neue Schichten Monolage für Monolage wachsen. Man geht hier davon aus, dass die Adhäsion auf der neuen Monolage ungefähr gleich der der blanken Oberfläche ist. Diese Art von Oberflächenwachstum ist z. B. bei Modell-Katalysatoren wichtig.
Stranski-Krastanow-Modus
Stranski-Krastanov-Wachstum[4]
Beim Stranski-Krastanov-Wachstum ist die Adhäsion auf der ersten Monolage höher als auf der reinen Oberfläche. Dadurch bildet sich zuerst eine ganze Monolage, die Benetzungsschicht (engl. wetting layer) aus, dann erfolgt das Wachstum auf Inseln in die Höhe. Dabei entstehen typischerweise Quantenpunkte.
Volmer-Weber-Modus
Volmer-Weber-Wachstum[5]
Beim Volmer-Weber-Wachstum (nach Max Volmer) ist die Adhäsion auf der neuen Schicht viel höher als auf der reinen Oberfläche des Festkörpers. Hier erfolgt das Wachstum in Form von hohen Inseln. Die entstehenden übergeordneten Strukturen sind dann Nanopartikel. Ein solches Wachstum führt also zu einer großen Oberfläche, wie sie beispielsweise bei heterogenen Katalysatoren in der chemischen Industrie erforderlich sind.

In der Realität liegt das Wachstum von Oberflächen-Schichten zwischen diesen sehr vereinfachten Modellen.

Siehe auch

Epitaxie, Dünne Schichten, Dünnschichttechnologie

Literatur

Einzelnachweise

  1. F. C. Frank, J. H. van der Merwe: One-Dimensional Dislocations. I. Static Theory. In: Proceedings of the Royal Society of London. Series A, Mathematical and Physical Sciences. 198, Nr. 1053, 1949, S. 205–216 (JSTOR, abgerufen am 9. November 2010).
  2. F. C. Frank, J. H. van der Merwe: One-Dimensional Dislocations. II. Misfitting Monolayers and Oriented Overgrowth. In: Proceedings of the Royal Society of London. Series A, Mathematical and Physical Sciences. 198, Nr. 1053, 1949, S. 216–225 (JSTOR, abgerufen am 9. November 2010).
  3. F. C. Frank, J. H. van der Merwe: One-Dimensional Dislocations. III. Influence of the Second Harmonic Term in the Potential Representation, on the Properties of the Model. In: Proceedings of the Royal Society of London. Series A, Mathematical and Physical Sciences. 200, Nr. 1060, 1949, S. 125–134 (JSTOR, abgerufen am 9. November 2010).
  4. I. N. Stranski, L. Krastanov: Zur Theorie der orientierten Ausscheidung von Ionenkristallen aufeinander. In: Sitzungsber. Akad. Wiss. Wien. Math.-Naturwiss. 146, 1938, S. 797–810.
  5. M. Volmer, A. Weber: Keimbildung in übersättigten Gebilden. In: Z. phys. Chem. 119, 1926, S. 277–301.

Wikimedia Foundation.

Игры ⚽ Поможем решить контрольную работу

Schlagen Sie auch in anderen Wörterbüchern nach:

  • Schichtwachstum — sluoksninis augimas statusas T sritis fizika atitikmenys: angl. laminated growth vok. Schichtwachstum, n rus. рост слоями, m; слоистый рост, m pranc. croissance feuilletée, f …   Fizikos terminų žodynas

  • Atomic Layer Deposition — Die Atomlagenabscheidung (engl. atomic layer deposition, ALD) ist ein stark verändertes CVD Verfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten. Verschiedene Namen ein Prinzip, die Atomlagenabscheidung[1] Bezeichnung Abkürzung Atomic layer deposition… …   Deutsch Wikipedia

  • Allotaxie — Molekularstrahlepitaxie (engl. molecular beam epitaxy, MBE) ist ein PVD Verfahren, um dünne kristalline Schichten herzustellen. Der Begriff Molekularstrahlepitaxie wird vor allem in der Halbleitertechnik verwendet; das Verfahren wird angewandt um …   Deutsch Wikipedia

  • Anodisation — Das Eloxal Verfahren [elɔˈksaːl] (von Eloxal, Abkürzung für elektrolytische Oxidation von Aluminium) ist eine Methode der Oberflächentechnik zur Erzeugung einer oxidischen Schutzschicht auf Aluminium durch anodische Oxidation. Dabei wird im… …   Deutsch Wikipedia

  • Anodisierung — Das Eloxal Verfahren [elɔˈksaːl] (von Eloxal, Abkürzung für elektrolytische Oxidation von Aluminium) ist eine Methode der Oberflächentechnik zur Erzeugung einer oxidischen Schutzschicht auf Aluminium durch anodische Oxidation. Dabei wird im… …   Deutsch Wikipedia

  • Anodized — Das Eloxal Verfahren [elɔˈksaːl] (von Eloxal, Abkürzung für elektrolytische Oxidation von Aluminium) ist eine Methode der Oberflächentechnik zur Erzeugung einer oxidischen Schutzschicht auf Aluminium durch anodische Oxidation. Dabei wird im… …   Deutsch Wikipedia

  • Atomlagenabscheidung — Die Atomlagenabscheidung (englisch atomic layer deposition, ALD) ist ein stark verändertes CVD Verfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten. Diese haben in der Regel eine polykristalline oder amorphe Struktur. Für einkristalline… …   Deutsch Wikipedia

  • Dünnschicht-Technologie — Bei der Dünnschichttechnologie werden Materialien (dünne Schichten üblicherweise unter 1 µm) durch verschiedene Verfahren auf das Substrat aufgebracht, um anschließend bearbeitet bzw. strukturiert zu werden. Die Abscheidung der Schichten erfolgt… …   Deutsch Wikipedia

  • Dünnschichttechnik — Bei der Dünnschichttechnologie werden Materialien (dünne Schichten üblicherweise unter 1 µm) durch verschiedene Verfahren auf das Substrat aufgebracht, um anschließend bearbeitet bzw. strukturiert zu werden. Die Abscheidung der Schichten erfolgt… …   Deutsch Wikipedia

  • Eloxal — Das Eloxal Verfahren [elɔˈksaːl] (von Eloxal, Abkürzung für elektrolytische Oxidation von Aluminium) ist eine Methode der Oberflächentechnik zur Erzeugung einer oxidischen Schutzschicht auf Aluminium durch anodische Oxidation. Dabei wird im… …   Deutsch Wikipedia

Share the article and excerpts

Direct link
Do a right-click on the link above
and select “Copy Link”