Extrem ultraviolette Strahlung

Extrem ultraviolette Strahlung
Falschfarbenbilder der Sonne im EUV: 17nm (blau), 19nm (grün), 29nm (gelb) 30nm (rot).

Extrem Ultraviolette Strahlung (XUV) bezeichnet den Spektralbereich zwischen ca. 10 nm und 100 nm. Dies entspricht Photonenenergien zwischen ca. 12 eV und 120 eV. XUV bezeichnet daher den Bereich elektromagnetischer Strahlung zwischen Vakuum-Ultraviolett (VUV-Strahlung) und Röntgenstrahlung.

Der gesamte Spektralbereich der Extrem ultravioletten Strahlung wird üblicherweise mit "XUV" abgekürzt. Für zwei Teilbereiche des XUV haben sich spezielle Bezeichnungen durchgesetzt:

EUV-Strahlung

EUV-Strahlung ist die Abkürzung für den Teil-Spektralbereich der XUV (engl. Extreme Ultra Violet), der für die geplante EUV-Lithografie nutzbar ist. EUV bezeichnet den Bereich um die international zwischen den F&E-Beteiligten vereinbarte Zentralwellenlänge von 13,5 nm. Für die Lithographie kann üblicherweise nur eine Bandbreite von ca. 2 % genutzt werden. Die Abkürzung wird aber auch häufig für den Bereich zwischen der Silizium-L-Kante (ca. 12,4 nm) bis hin zu ca. 20 nm verwendet.

Die Halbleiterindustrie plant, ab ca. 2019 Chips mit EUV-Strahlung kommerziell herzustellen (siehe EUV-Lithografie).

EUV-Strahlung bietet aufgrund der kurzen Wellenlänge und der starken Wechselwirkung mit Materie das Potential der Analyse und Strukturerzeugung mit Nanometer-Auflösung und typisch mehrerer hundert Nanometer Eindringtiefe.


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